超高真空中にて、加熱したシリコン表面にアンモニアやエチレンガスなどを反応させ、その表面をオージェ電子分光(AES)やX線光電子分光(XPS)、走査電子顕微鏡(SEM)、トンネル電子顕微鏡(STM)、原子間力顕微、(AFM)などの手法で測定し、表面での化学反応や、表面に形成される窒化物、炭化物の形成・成長機構の解明を行なってきました。
現在はシリコン表面、金属表面の酸化反応、窒化反応の機構や極薄酸化膜、窒化膜の成長機構を解明する研究しております。
名称・型番(メーカー) | |
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オージェ電子分光装置AAS-200(日電アネルバ) | スピンコーターMS-A100(ミカサ) |
赤外吸収スペクトル測定装置FT/IR-4600(JASCO) |