RFマグネトロンスパッタ装置

設備・装置名 RFマグネトロンスパッタ装置
技術相談 可能
共同研究 可能
管理担当者 主担当:電気情報工学科 浅野清光
副担当:なし
設置場所 専攻科棟1階材料物性実験室
仕様

(1)13.56MHzの最大500W の高周波水晶発振式電源を用いて、ナノメータの膜厚の各種薄膜を制御良く作製できる。

(2) クライオポンプで10-8Torr以下の超高真空まで排気して、その後高純度アルゴンガスをマスフローシステムで導入できる。

主な用途

(1) 半導体、金属、酸化物、超伝導体、光触媒等の各種の薄膜を作製できる。

(2) 耐熱温度の比較的低い(80~100℃)医療用器具の基板にも薄膜を作製できる。

キーワード RFマグネトロンスパッタリング、薄膜、非耐熱性基板

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